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產(chǎn)品與服務(wù)

離子膜燒堿

離子膜燒堿

來源:
時(shí)間:2025-05-26

燒堿:

濃度:31%、45%

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):工業(yè)用氫氧化鈉GB 209-2006? 高純氫氧化鈉GBT11199-2006

性質(zhì):化學(xué)名稱為氫氧化鈉,本品為略帶粘稠液體,具有強(qiáng)氧化性,能與酸、鹵素物質(zhì)起化學(xué)反應(yīng)。

工藝:離子膜法。離子膜燒堿裝置采用的模極距自然循環(huán)電解槽在國(guó)內(nèi)同行業(yè)中是領(lǐng)先的,該技術(shù)的應(yīng)用在燒堿消耗上和國(guó)內(nèi)同行業(yè)比每噸節(jié)省約100度電。

用途:廣泛用于化工、冶金、造紙、石油、紡織品以及日用化工等部門。

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